排ガス処理システム
最適な排ガス処理システムのご提案
1,000件以上の実績に裏打ちされた技術により、お客さまの設計条件と各環境法規制を満足し、省スペース、省エネルギー、自動制御運転による省人化を考慮した設計により、イニシャルコストとメンテンナンスコストを最小限に抑えたシステムをご提案します。
新規設備のみならず、既存設備の改善のご提案も可能です。
強み・特長
1無機排気(酸系・アルカリ系排気)および有機排気(VOC)など様々な実績があり、幅広い提案が可能
2処理装置の設計から付帯設備(濃縮、燃焼、溶剤回収、排熱回収、シリコン対策)を含めたシステムの提案が可能
3排ガス処理設備だけではなく全体の設計から施工メンテナンスまで一貫したトータルエンジが可能
大気汚染防止システムの選定ガイド
1. 無機排ガス(スクラバー、ベンチュリースクラバー)、吸着脱臭システム
スクラバー
竪型および横型があり、洗浄方式には1段から多段まで、さまざまなバリエーションがあり、臭気成分や除去効率および設置スペースに応じて対応します。
ヒシスクラバーVCP(カウンターフロータイプ)
特長
- (1)ガス吸収性能、ガス冷却効率が優れています。
- (2)風量変動に対し、フレキシブルに対応します。
- (3)インバーター制御が可能ですので、省エネルギーになります。
ヒシスクラバーSPT(多孔板タイプ)
特長
- (1)目づまりしにくい多孔板形状によりダストを効率よく捕集します。
- (2)運転管理が簡単にできる構造です。
- (3)段数を替えることにより、より高い効率の設計が可能です。
ベンチュリ―スクラバー
シリカ(SiO2)などのダストを高効率で連続的に捕集する集塵装置。
ヒシスクラバーVSV(ベンチュリータイプ)
特長
- (1)1ミクロン程度の微粒子まで捕集できます。
- (2)閉塞の心配がありません。
- (3)ストロー部の気液接触が大きいためガス吸収も期待できます。
吸着脱臭システム
施設から発生するさまざまな臭気を乾式で処理するシステム。
臭気成分に応じて、活性炭をはじめその他の吸着剤を組み合わせ、高い脱臭効率が得られます。
吸着塔の形式:竪型および横型、吸着剤の充填:1層式から多層式までと、さまざまなバリエーションがあり、臭気成分、臭気効率、設置スペースに応じて対応します。
スクラバーシステムの特徴
- バックアップ自動切換え
- 静圧変動ミニマム制御
- 運転中のメンテナンス&増設
お客さまの中央監視システムと連携した遠隔監視・操作、状態監視による異常の早期発見が可能となります。
最適なシーケンスを組むことで、作業の効率化や省人化も考慮して、設計段階からご提案をします。
2. VOC処理装置(直接燃焼、触媒燃焼、蓄熱燃焼、濃縮装置、溶剤回収装置)+廃熱回収装置
生産装置稼働率、風量、成分、立地、ユーティリティ条件よって、イニシャルおよびランニングコストが最適となる設備をご提案します。
有機機シリコンが含まれる場合には、シリコンの種類により、最適な前処理フィルターによる除去、目詰まりしにくい蓄熱体の選定等を
ご提案します。
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| 直接燃焼法 | 触媒燃焼法 | 蓄熱燃焼法 | 濃縮+燃焼法 | 濃縮+液化回収法 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 原理 |
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蓄熱層予熱 →燃焼酸化処理 |
吸着・濃縮 →燃焼処理 |
活性炭吸着・ 濃縮→脱着 →冷却液化回収 |
| 特長 | 幅広い排ガスに対応可 (高沸点化合物・シリコン含有物) |
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| 選定上の注意 |
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イニシャルコスト削減
最適な処理風量の設定、排ガス風量と濃度によって、濃縮装置の検討・納入をします。
ランニングコストの削減(省エネ対応)
蓄熱燃焼方式の採用、排熱回収設備の導入検討、濃縮装置の検討、最適なバーナー、風量制御による省エネ運転の検討により、
ランニングコスト削減のご提案をします。
- 蓄熱燃焼で高熱効率・自己燃焼
- 排熱回収で熱風リサイクル・省エネ化
回転式蓄熱燃焼装置フロー(立地、コスト、排ガス成分によって、2塔式、多塔式でのご提案も可能です)
3. 溶剤回収装置
排ガスに含まれる有機溶剤(例:酢酸エチルなどの単一溶剤)ガスの場合は、活性炭(固定床、流動床)で吸着し、一次回収液を回収できます。
溶剤回収装置の後段に蒸留または膜分離装置をつけることで、純度を新品同様まで上げて、再利用することが可能です。一次回収液をリサイクル
業者に売却し、収益を得ることも可能です。当社はベンダーフリーでお客さまに最適な装置をご提案します。
適用事例と対象ガス一例
- ドライラミ、グラビア印刷:
- 酢酸エチル、MEK、トルエン、キシレン、IPA等
- 半導体、液晶:
- IPA等
4. ミュースクラバー
気液接触部のエレメントに特徴があり、洗浄水がエレメント上を旋回する事で汚れの付着が防止できる為、メンテナンスフリーです。
又、対象ガスと洗浄液を並流で使用する為、低圧損を実現しています。更に一般有害ガスと粉塵を纏めて処理できる特徴があります。
コンパクト設計可能(流速は2~20m/sec可変)、フラッディング現象が起こりません。
用途
- 一般有害ガスの除去:
- HF、HCl、Cl2、H2SO4、NH3、HNO3等
- 特殊ガス除去:
- SiCl4、SiH4等
- 粉塵除去:
- SiO2、ZnO等
- 悪臭成分ガスの脱臭:
- H2S、MM、DMS、DMDS等
構造
- 円筒形塔内に静止形混合器を内蔵:静止形混合器は右および左捻りの螺旋状の羽根体
- ガス、洗浄液は並流で上部より流下:分割、合流、セン断、螺旋状回転→完全混合接触
- 側面にスプレーノズル配置:羽根体への付着物防止、目詰まり防止
よくあるご質問
人間の感覚において、臭いの程度を数値化したものです。測定方法は、臭気判定士が三点比較式臭袋法によって行います。悪臭防止法などの規制基準に使用されています。
臭気を定量的に数値化する尺度のことです。臭気の質に応じて、6段階の臭気表示を採用しています。悪臭防止法の規制に定める敷地境界線における規制基準の範囲は、下限は臭気強度2.5以下、上限は地域の自然・社会的条件を考慮し3.5以下に対応する濃度とされています。
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| 臭気強度 | 内容 |
|---|---|
| 0 | 無臭 |
| 1 | やっと感知できる臭い |
| 2 | 何の臭いであるかわかる弱い臭い |
| 3 | らくに感知できる臭い |
| 4 | 強い臭い |
| 5 | 強烈な臭い |
揮発性有機化合物(Volatile Organic Compounds)の略です。光化学物質の主要原因とされています。代表的な物質として、接着剤、インキ等に含まれる酢酸エチル、トルエン、ホルムアルデヒド等があげられます。
1960年代に全国各地で工場・事業所からの悪臭が社会問題となり、その規制として1971年に公布された法律です。評価方法は、「特定悪臭物質(22物質)」の濃度による規制と、「臭気指数」を用いる規制の2種類があります。規制基準は政令の範囲で定めてあり、敷地境界線における大気の基準、気体排出口における基準、排出水の基準があります。
1968年に国民の健康保護と生活保護を目的として制定された法律です。
大気汚染防止法改正に伴い、VOCの排出規制が2006年に施行されました。
お客さまの条件(成分、風量、濃度、設置スペース等)に合わせてご提案します。
「排ガス処理設備お問い合わせシート」に必要事項を記載の上、メールでのお問い合わせをお願いします。
吸着塔の形式には、竪型および横型があり、吸着剤の充填も1層式から多層式までと、さまざまなバリエーションがあります。臭気成分や臭気効率および設置スペースに応じて対応します。
実績
化学、食品、半導体等各業界の工場に納入した実績がございます。
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| 業界 | 工事場所 | 方式 | |
|---|---|---|---|
| 1 | 半導体 | 広島 | 半導体工場酸系排気処理設備増強工事 |
| 2 | 半導体 | 広島 | スクラバー設置工事 |
| 3 | 化学 | 福井 | 排ガス処理設備設置 |
| 4 | 非鉄金属 | 茨城 | 触媒プラント排ガス処理設備設置工事 |
| 5 | 飲料 | 山梨 | 新3号ライン脱臭装置設置工事 |
| 6 | 化学 | 香川 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 7 | 非鉄金属 | 香川 | SO2ヒューム除害設備 |
| 8 | 半導体 | 上海 | 湿式スクラバー |
| 9 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 10 | 医薬品 | 大阪 | EtOHスクラバー |
| 11 | 化学 | 神奈川 | 特殊排ガス処理設備設置 |
| 12 | 化学 | 香川 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 13 | 半導体 | 茨城 | NH3スクラバー設置工事 |
| 14 | 半導体 | 中国 | 排ガス処理設備 |
| 15 | 化学 | 福島 | 排ガススクラバー |
| 16 | 半導体 | 中国 | 排ガス処理設備 |
| 17 | 化学 | 北海道 | 脱臭設備設置工事 |
| 18 | 半導体 | 茨城 | 除害設備設置 |
| 19 | 化学 | 愛知 | アルカリ系スクラバー(SC-3)更新工事 |
| 20 | 化学 | 愛知 | 酸系(SC-4)スクラバー更新工事 |
| 21 | 半導体 | 滋賀 | 無機排気処理設備工事 |
| 22 | 飲料 | 神奈川 | 排気処理設備改修工事 |
| 23 | 非鉄金属 | 香川 | ベンチュリースクラバー |
| 24 | 半導体 | 中国 | 排気処理設備装置 |
| 25 | 半導体 | 山形 | 粉系排ガス処理増設工事 |
| 26 | 化学 | 岡山 | 脱硝反応器 |
| 27 | 半導体 | 滋賀 | 排ガス処理装置 |
| 28 | 非鉄金属 | 某所 | 湿式除塵装置 |
| 29 | 化学 | 茨城 | 排ガス処理設備 |
| 30 | ガラス・土石 | 香川 | 排ガス洗浄装置 |
| 31 | 半導体 | 愛知 | 排気処理設備 |
| 32 | 半導体 | 神奈川 | 排気処理装置 |
| 33 | 半導体 | 広島 | アルカリ系粉排気工事 |
| 34 | 半導体 | 愛知 | CVDスクラバー |
| 35 | 飲料 | 宮城 | 脱臭設備改善工事 |
| 36 | 半導体 | 上海 | 湿式スクラバー |
| 37 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 38 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 39 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 40 | 化学 | 千葉 | ダストトラッピング装置 |
| 41 | 半導体 | 中国 | アルカリ系・粉系排ガス処理 |
| 42 | 半導体 | 中国 | 酸系・アルカリ系・剥離系排ガス処理 |
| 43 | 半導体 | 中国 | 酸系排ガス処理 |
| 44 | 半導体 | 中国 | アルカリ系排ガス処理 |
| 45 | 半導体 | 中国 | ハクリ系排ガス処理 |
| 46 | 化学 | 新潟 | Hラインスプレー塔 |
| 47 | 化学 | 山口 | ミュースクラバー |
| 48 | 非鉄金属 | 神奈川 | ミュースクラバー |
| 49 | 公共設備 | 神奈川 | 脱臭装置 |
| 50 | 下水処理場 | 神奈川 | 活性炭吸着塔 |
| 51 | 機械 | 滋賀 | 脱臭装置 |
| 52 | 下水処理場 | 滋賀 | 生物脱臭塔+活性炭吸着塔 |
| 53 | ガラス・土石 | 神奈川 | 燃焼炉 |
| 54 | その他製造 | 香川 | スクラバー |
| 55 | 金属 | 岡山 | スクラバー |
| 56 | 半導体 | 広島 | 酸系スクラバー |
| 57 | 半導体 | 広島 | アルカリ系スクラバー |
| 58 | 化学 | 千葉 | 充填塔 |
直接、触媒、蓄熱燃焼から溶剤回収装置まで多数の実績があります。
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| 処理・回収方式 | 場所 | 処理ガス量 Nm3/分 |
濃縮ガス量 Nm3/分 |
処理対象施設 | 特記事項 |
|---|---|---|---|---|---|
| 直接燃焼法 | 滋賀 | 293 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(熱媒) |
| 滋賀 | 350 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(熱媒+蒸気+熱風) | |
| 触媒燃焼法 | 神奈川 | 140 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理(排熱熱交による排ガス予熱) |
| 新潟 | 160 | - | 化学品焼成炉 | 燃焼処理(排熱熱交による排ガス予熱) | |
| 宮城 | 112 | - | ドライラミ乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 蓄熱燃焼法 | 富山 | 650 | - | 接着コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理+排熱回収(熱風) |
| 福井 | 663 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(蒸気) | |
| 滋賀 | 950 | - | コーター乾燥炉 3ライン | 燃焼処理+排熱回収(熱媒) | |
| 岡山 | 250 | - | インク製造施設 | 燃焼処理 | |
| 岐阜 | 550 | - | コーター乾燥炉 2ライン(内将来1台) | 燃焼処理 | |
| 富山 | 250 | - | 接着コーター乾燥炉 | 燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 岐阜 | 160 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 神奈川 | 300 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 山梨 | 450 | - | 接着コーター乾燥炉 2ライン(内将来1ライン) | 燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 岐阜 | 351 | - | コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理 | |
| 滋賀 | 650 | - | コーター乾燥炉 4ライン | 燃焼処理 | |
| 和歌山 | 519 | - | コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理 | |
| 千葉 | 100 | - | ドライラミ機 | 燃焼処理 | |
| 濃縮+蓄熱燃焼法 | 愛知 | 1,000 | 84 | グラビア印刷機 3ライン ドライラミ機 1ライン |
吸着処理+濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(蒸気) |
| 滋賀 | 680 | 130 | ラミネート乾燥炉 2ライン | 吸着処理+濃縮VOC燃焼処理 | |
| 埼玉 | 890 | 340 | ドライラミ機 2ライン 押出しラミ機 1ライン |
吸着処理+濃縮VOC燃焼処理 | |
| 濃度コントロール+蓄熱燃焼法 | 千葉 | 2,330 | 630 | グラビア印刷機 3ライン ドライラミ機 1ライン |
濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(熱風) |
| 千葉 | 4,600 | 1,150 | グラビア印刷機 7ライン | 濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 福岡 | 910 | 314 | グラビア印刷機 1ライン ドライラミ機 1ライン |
濃縮VOC燃焼処理 | |
| 液化回収法 | 福岡 | 10 | - | 化学薬品製造施設 | 活性炭吸着処理+液化回収 |
| 埼玉 | 1,200 | - | ドライラミ機 3ライン 押出しラミ機 3ライン |
活性炭吸着処理+液化回収 | |
| 福島 | 75 | - | 化学薬品製造施設 | 活性炭吸着処理+液化回収 | |
| 千葉 | 725 | - | ドライラミ機 3ライン | 活性炭吸着処理+液化回収+蒸留精製 | |
| 活性炭吸着法 | 静岡 | 40 | - | 印刷工程 1ライン | |
| 岐阜 | 230 | - | 有機系廃水処理 | 曝気槽排気の吸着脱臭 |
大気汚染防止システムの選定ガイド
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