排ガス処理システム
省スペース・省エネルギー・省人化を実現、コストも抑えた最適なシステム
当社は1,000件以上の排ガス処理システムの実績がございます。各環境法規制をクリアし、省スペース・省エネルギー・省人化を実現、コストも最小限に抑え、お客さまに最適なシステムを提案いたします。新規設備のみならず、既存設備の改善についても、ぜひご相談ください。
強み・特長
1無機排気(酸系・アルカリ系排気)から有機排気(VOC)まで幅広くカバー
2装置設計から付帯設備(前処理設備、ユーティリティ、溶剤回収、排熱回収、電気計装システム)までを提案
3処理設備だけでなく、全体設計から施工メンテナンスまでをトータルエンジニアリング
大気汚染防止システムの選定ガイド
1. 無機排ガス(スクラバー、ベンチュリースクラバー)、吸着脱臭システム
スクラバー
洗浄方式には充填塔、多孔板塔など様々なバリエーションがあります。臭気成分や除去効率、設置スペース等に応じて最適なシステムを設計します。
特長
- (1)高度な静圧コントロール
- (2)365日無停止運転が可能
- (3)短時間切替復帰が可能
- (4)ランニングコストを最小に
- (1)ガス吸収性能・ガス冷却効率に優れています
- (2)インバーターによる風量制御が可能で、省エネルギー性に優れています
- (3)風量変動に応じてフレキシブルに制動します
- (1)目詰まりしにくい多孔板形状により、効率よくダストを捕集します
- (2)段数を変えることで、高効率なシステムを設計できます
- (3)清掃が容易でメンテナンス性に優れています
- (1)1ミクロン程度の微粒子まで捕集できます
- (2)閉塞の心配がありません
- (3)ストロー部の気液接触が大きく、ガス吸収も期待できます
- 吸着塔の形式:竪型および横型
- 吸着剤の充填:1層式から多層式まで
お客さまの中央監視システムと連携した遠隔監視・操作や状態監視により、異常を早期に発見できるシステムです。最適なシーケンスを組み、作業効率や省人化も考慮して設計します。
ヒシスクラバーVCP(充填タイプ)
特長
ヒシスクラバーSPT(多孔板タイプ)
特長
ベンチュリ―スクラバー
シリカ(SiO2)などのダストを効率よく連続的に捕集する集塵装置です。
ヒシスクラバーVSV(ベンチュリータイプ)
特長
吸着脱臭システム
施設から発生する臭気を乾式で処理するシステムです。臭気成分に応じて様々な種類の活性炭を組み合わせ、脱臭効率を高めます。臭気成分・臭気効率・設置スペース等に応じて、お客さまに最適なシステムを提案いたします。
2.VOC処理装置(燃焼方式)
排ガス中に含まれるVOCを燃焼により酸化分解する装置で、直接燃焼式、蓄熱燃焼式、触媒燃焼式があります。生産装置の稼働率、風量、成分、立地、ユーティリティ条件から、最適な設備を選定し提案します。また、前処理設備、廃熱利用、燃料供給設備などの付帯設備や、有機機シリコンや昇華物対策も提案します。
この表はスクロールしてご覧いただけます。
| 直接燃焼法 | 触媒燃焼法 | 蓄熱燃焼法 | 濃縮+燃焼法 | 濃縮+液化回収法 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 原理 |
|
|
蓄熱層予熱 →燃焼酸化処理 |
吸着・濃縮 →燃焼処理 |
活性炭吸着・ 濃縮→脱着 →冷却液化回収 |
| 特長 | 幅広い排ガスに対応可 (高沸点化合物・シリコン含有物) |
|
|
|
|
| 選定上の注意 |
|
|
|
|
|
|
|||||
コスト削減
- 生産設備の能力や稼働状況をお伺いして最適な設計条件を算出し、最も効率の良い処理方式、処理能力の設備でイニシャルコストを削減します
- 廃熱の再利用や省エネモードの採用により、ランニングコストも低減します
回転式蓄熱燃焼装置フロー(立地・コスト・排ガス成分により、2塔式や多塔の提案も可能です)
3. VOC処理装置(溶剤回収方式)
排ガスに含まれる有機溶剤(例:酢酸エチル等の単一溶剤)は、活性炭(固定床、流動床)で吸着し一次回収液を回収できます。溶剤回収装置の後段に蒸留または膜分離装置をつけると、回収液の純度を新品同様に上げて再利用できます。純度の高い一次回収液は、リサイクル業者に売却して収益化することも可能です。
適用事例と対象ガス一例
- ドライラミ、グラビア印刷:酢酸エチル、MEK、トルエン、キシレン、IPA等
- 半導体、液晶:IPA等
4. ミュースクラバー
気液接触部で洗浄水がエレメント上を旋回して汚れの付着を防止する、メンテナンスフリーのスクラバーです。並行流のため低圧損で、一般有害ガスと粉塵をまとめて処理することができます。コンパクトな設計が可能(流速は2~20m/sec可変)で、フラッディング現象が起こりません。
用途
- 一般有害ガスの除去:HF、HCl、Cl2、H2SO4、NH3、HNO3等
- 特殊ガス除去:SiCl4、SiH4等
- 粉塵除去:SiO2、ZnO等
- 悪臭成分ガスの脱臭:H2S、MM、DMS、DMDS等
構造
- 円筒形塔内に静止形混合器を内蔵:静止形混合器は右および左捻りの螺旋状の羽根体
- ガス・洗浄液は並流で上部より流下:分割、合流、せん断、螺旋状回転 → 完全混合接触
- 側面にスプレーノズルを配置:羽根体への付着物防止、目詰まり防止
よくあるご質問
人間の感覚において、臭いの程度を数値化したものです。臭気判定士が三点比較式臭袋法により測定します。悪臭防止法などの規制基準に使用されています。
臭気を定量的に数値化する尺度です。臭気の質により、6段階の臭気で表示されます。悪臭防止法などの規制基準に使用されています。
この表はスクロールしてご覧いただけます。
| 臭気強度 | 内容 |
|---|---|
| 0 | 無臭 |
| 1 | やっと感知できる臭い |
| 2 | 何の臭いであるかわかる弱い臭い |
| 3 | らくに感知できる臭い |
| 4 | 強い臭い |
| 5 | 強烈な臭い |
1960年代に全国各地で工場や事業所からの悪臭が社会問題となり、その規制として1971年に公布された法律です。評価方法は、「特定悪臭物質(22物質)」の濃度による規制と、「臭気指数」を用いる規制の2種類があります。以下の3箇所で、特定悪臭物質の「濃度」または「臭気指数」により規制されます。
- 敷地境界線上の大気
- 気体の排出口(煙突など)
- 排出水
1968年に工場や事業場などから排出される「ばい煙」や「粉じん」などの大気汚染物質の排出を規制するために制定された法律です。大気汚染防止法の改正に伴い、2006年に工場などの施設から排出される揮発性有機化合物(VOC)を減らすため、VOCの排出規制が施行されました。
揮発性有機化合物(Volatile Organic Compounds)の略で、光化学物質の主要原因とされています。代表的な物質に、接着剤、インキ等に含まれる酢酸エチル、トルエン、ホルムアルデヒド等があります。
吸着塔の形式には竪型と横型があります。吸着剤の充填には1層式から多層式まで様々なバリエーションがあります。臭気成分や臭気効率、風量、濃度、設置スペース等に合わせて最適なシステムを設計します。
実績
化学、食品、半導体等各業界の工場に納入した実績がございます。
この表はスクロールしてご覧いただけます。
| 業界 | 工事場所 | 方式 | |
|---|---|---|---|
| 1 | 半導体 | 広島 | 半導体工場酸系排気処理設備増強工事 |
| 2 | 半導体 | 広島 | スクラバー設置工事 |
| 3 | 化学 | 福井 | 排ガス処理設備設置 |
| 4 | 非鉄金属 | 茨城 | 触媒プラント排ガス処理設備設置工事 |
| 5 | 飲料 | 山梨 | 新3号ライン脱臭装置設置工事 |
| 6 | 化学 | 香川 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 7 | 非鉄金属 | 香川 | SO2ヒューム除害設備 |
| 8 | 半導体 | 上海 | 湿式スクラバー |
| 9 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 10 | 医薬品 | 大阪 | EtOHスクラバー |
| 11 | 化学 | 神奈川 | 特殊排ガス処理設備設置 |
| 12 | 化学 | 香川 | DXN排ガス処理設備工事 |
| 13 | 半導体 | 茨城 | NH3スクラバー設置工事 |
| 14 | 半導体 | 中国 | 排ガス処理設備 |
| 15 | 化学 | 福島 | 排ガススクラバー |
| 16 | 半導体 | 中国 | 排ガス処理設備 |
| 17 | 化学 | 北海道 | 脱臭設備設置工事 |
| 18 | 半導体 | 茨城 | 除害設備設置 |
| 19 | 化学 | 愛知 | アルカリ系スクラバー(SC-3)更新工事 |
| 20 | 化学 | 愛知 | 酸系(SC-4)スクラバー更新工事 |
| 21 | 半導体 | 滋賀 | 無機排気処理設備工事 |
| 22 | 飲料 | 神奈川 | 排気処理設備改修工事 |
| 23 | 非鉄金属 | 香川 | ベンチュリースクラバー |
| 24 | 半導体 | 中国 | 排気処理設備装置 |
| 25 | 半導体 | 山形 | 粉系排ガス処理増設工事 |
| 26 | 化学 | 岡山 | 脱硝反応器 |
| 27 | 半導体 | 滋賀 | 排ガス処理装置 |
| 28 | 非鉄金属 | 某所 | 湿式除塵装置 |
| 29 | 化学 | 茨城 | 排ガス処理設備 |
| 30 | ガラス・土石 | 香川 | 排ガス洗浄装置 |
| 31 | 半導体 | 愛知 | 排気処理設備 |
| 32 | 半導体 | 神奈川 | 排気処理装置 |
| 33 | 半導体 | 広島 | アルカリ系粉排気工事 |
| 34 | 半導体 | 愛知 | CVDスクラバー |
| 35 | 飲料 | 宮城 | 脱臭設備改善工事 |
| 36 | 半導体 | 上海 | 湿式スクラバー |
| 37 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 38 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 39 | 化学 | 新潟 | DXN排ガス処理設備 |
| 40 | 化学 | 千葉 | ダストトラッピング装置 |
| 41 | 半導体 | 中国 | アルカリ系・粉系排ガス処理 |
| 42 | 半導体 | 中国 | 酸系・アルカリ系・剥離系排ガス処理 |
| 43 | 半導体 | 中国 | 酸系排ガス処理 |
| 44 | 半導体 | 中国 | アルカリ系排ガス処理 |
| 45 | 半導体 | 中国 | ハクリ系排ガス処理 |
| 46 | 化学 | 新潟 | Hラインスプレー塔 |
| 47 | 化学 | 山口 | ミュースクラバー |
| 48 | 非鉄金属 | 神奈川 | ミュースクラバー |
| 49 | 公共設備 | 神奈川 | 脱臭装置 |
| 50 | 下水処理場 | 神奈川 | 活性炭吸着塔 |
| 51 | 機械 | 滋賀 | 脱臭装置 |
| 52 | 下水処理場 | 滋賀 | 生物脱臭塔+活性炭吸着塔 |
| 53 | ガラス・土石 | 神奈川 | 燃焼炉 |
| 54 | その他製造 | 香川 | スクラバー |
| 55 | 金属 | 岡山 | スクラバー |
| 56 | 半導体 | 広島 | 酸系スクラバー |
| 57 | 半導体 | 広島 | アルカリ系スクラバー |
| 58 | 化学 | 千葉 | 充填塔 |
直接、触媒、蓄熱燃焼から溶剤回収装置まで多数の実績があります。
この表はスクロールしてご覧いただけます。
| 処理・回収方式 | 場所 | 処理ガス量 Nm3/分 |
濃縮ガス量 Nm3/分 |
処理対象施設 | 特記事項 |
|---|---|---|---|---|---|
| 直接燃焼法 | 滋賀 | 293 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(熱媒) |
| 滋賀 | 350 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(熱媒+蒸気+熱風) | |
| 触媒燃焼法 | 神奈川 | 140 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理(排熱熱交による排ガス予熱) |
| 新潟 | 160 | - | 化学品焼成炉 | 燃焼処理(排熱熱交による排ガス予熱) | |
| 宮城 | 112 | - | ドライラミ乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 蓄熱燃焼法 | 富山 | 650 | - | 接着コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理+排熱回収(熱風) |
| 福井 | 663 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理+排熱回収(蒸気) | |
| 滋賀 | 950 | - | コーター乾燥炉 3ライン | 燃焼処理+排熱回収(熱媒) | |
| 岡山 | 250 | - | インク製造施設 | 燃焼処理 | |
| 岐阜 | 550 | - | コーター乾燥炉 2ライン(内将来1台) | 燃焼処理 | |
| 富山 | 250 | - | 接着コーター乾燥炉 | 燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 岐阜 | 160 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 神奈川 | 300 | - | コーター乾燥施設 | 燃焼処理 | |
| 山梨 | 450 | - | 接着コーター乾燥炉 2ライン(内将来1ライン) | 燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 岐阜 | 351 | - | コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理 | |
| 滋賀 | 650 | - | コーター乾燥炉 4ライン | 燃焼処理 | |
| 和歌山 | 519 | - | コーター乾燥炉 2ライン | 燃焼処理 | |
| 千葉 | 100 | - | ドライラミ機 | 燃焼処理 | |
| 濃縮+蓄熱燃焼法 | 愛知 | 1,000 | 84 | グラビア印刷機 3ライン ドライラミ機 1ライン |
吸着処理+濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(蒸気) |
| 滋賀 | 680 | 130 | ラミネート乾燥炉 2ライン | 吸着処理+濃縮VOC燃焼処理 | |
| 埼玉 | 890 | 340 | ドライラミ機 2ライン 押出しラミ機 1ライン |
吸着処理+濃縮VOC燃焼処理 | |
| 濃度コントロール+蓄熱燃焼法 | 千葉 | 2,330 | 630 | グラビア印刷機 3ライン ドライラミ機 1ライン |
濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(熱風) |
| 千葉 | 4,600 | 1,150 | グラビア印刷機 7ライン | 濃縮VOC燃焼処理+排熱回収(熱風) | |
| 福岡 | 910 | 314 | グラビア印刷機 1ライン ドライラミ機 1ライン |
濃縮VOC燃焼処理 | |
| 液化回収法 | 福岡 | 10 | - | 化学薬品製造施設 | 活性炭吸着処理+液化回収 |
| 埼玉 | 1,200 | - | ドライラミ機 3ライン 押出しラミ機 3ライン |
活性炭吸着処理+液化回収 | |
| 福島 | 75 | - | 化学薬品製造施設 | 活性炭吸着処理+液化回収 | |
| 千葉 | 725 | - | ドライラミ機 3ライン | 活性炭吸着処理+液化回収+蒸留精製 | |
| 活性炭吸着法 | 静岡 | 40 | - | 印刷工程 1ライン | |
| 岐阜 | 230 | - | 有機系廃水処理 | 曝気槽排気の吸着脱臭 |