スラリー供給システム

SDS:Slurry Distribution System

ポリッシングプロセスで使用されるスラリーの物性特性を安定させたまま、1台のスラリー供給システムから複数のユースポイン トへの供給を可能にいたします。

装置概要

半導体・太陽電池の基板などに用いられる結晶の表面を化学機械的にポリッシングするためのポリッシングスラリーを供給する装置です。

特長

  • 多様化する各種スラリー(シリカベース、セリウムベース、アルミナベース等)の対応
  • スラリー物性を考慮した物性およびパーツ(タンク、ポンプ、バルブ等)の採用
  • 自動洗浄システムによる定期洗浄でのポリッシングプロセスの安定化
  • 低コスト、省スペース
    薬液の性状を良く理解し、最適なコスト・スペースをご提案いたします。
  • 大型容器の対応可能
  • 300㎜プロセスへの適用実績多数あり

用途

半導体関連製造設備

仕様

下記の図は概略図の一例になります。

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